표준물질>표준물질 관리>표준물질생산.공급기관

기관명: 한국표준과학연구원

기관유형: 생산기관.공급기관

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대표자명: 박현민

공인유효기간

contact: 전화번호 : 042-868-5555 팩스번호 : 042-868-5556 홈페이지 : https://eshop.kriss.re.kr/ 주소 : 대전 유성구 가정로 267한국표준과학연구원 (도룡동)

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배치형 테스트1 1원
nm Si/Ge 다층박막 인증표준물질 nm Si/Ge multilayer film CRM 550,000원
Hf_0.5Zr_0.5O₂ 박막 두께 분석용 CRM (1.5 nm) Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin film CRM (1.5 nm) 748,000원
Hf_0.5Zr_0.5O₂ 박막 박막 두께 분석용 CRM (2.0 nm) Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin film CRM (2.0 nm) 748,000원
Hf_0.5Zr_0.5O₂ 박막 CRM (2.5 nm) Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin film CRM (2.5 nm) 748,000원
Hf_0.5Zr_0.5O₂ 박막 CRM (3.0 nm) Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin film CRM (3.0 nm) 748,000원
Hf_0.5Zr_0.5O₂ 박막 CRM (3.5 nm) Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin film CRM (3.5 nm) 748,000원
Hf_0.5Zr_0.5O₂ 박막 CRM (4.0 nm) Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin film CRM (4.0 nm) 748,000원
Hf_0.6Si_0.4O₂박막 두께 분석용 CRM (1.4 nm) Hf_0.6Si_0.4O₂ thin film CRM (1.4 nm) 1,012,000원
Hf_0.7Si_0.3O₂박막 두께 분석용 CRM (2.0 nm) Hf_0.7Si_0.3O₂ thin film CRM (2.0 nm) 1,012,000원
Hf₀_.8Si_0.2O₂ 박막 두께 분석용 CRM (2.6 nm) Hf_0.8Si_0.2O₂ thin film CRM (2.6 nm) 880,000원
Hf_0.8Si_0.2O₂박막 두께 분석용 CRM (3.2 nm) Hf_0.8Si_0.2O₂ thin film CRM (3.2 nm) 880,000원
Hf_0.8Si_0.2O₂박막 두께 분석용 CRM (3.8 nm) Hf_0.8Si_0.2O₂ thin film CRM (3.8 nm) 880,000원
Hf_0.8Si_0.2O₂ 박막 두께 분석용 CRM (4.4 nm) Hf_0.8Si_0.2O₂ thin film CRM (4.4 nm) 880,000원
염화 소듐 (염화 나트륨) Sodium chloride (NaCl) 220,000원
프탈산 수소 칼륨 (KHP) Potassium hydrogen phthalate (KHP) 121,000원
다이크로뮴산 포타슘 Potassium dichromate (K₂Cr₂O₇) 220,000원
에틸렌다이아민테트라아세트산 (EDTA) Ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) 330,000원
탄산 소듐 Sodium carbonate (Na₂CO₃) 440,000원
옥살산 소듐(sodium oxalate) Sodium oxalate 440,000원
브로민화 포타슘 Potassium bromide 550,000원
포도당 D-Glucose 110,000원
아세트아닐리드 Acetanilide 165,000원
탄산에틸렌 Ethylene carbonate 165,000원
알루미늄(Al) 단일원소 표준용액 Aluminium (Al) standard solution 165,000원
안티모니 (안티몬) 단일원소 표준용액 Antimony (Sb) standard solution 165,000원
비소(As) 단일원소 표준용액 Arsenic (As) standard solution 165,000원
베릴륨(Be) 단일원소 표준용액 Beryllium (Be) standard solution 165,000원
붕소(B) 단일원소 표준용액 Boron (B) standard solution 165,000원
카드뮴(Cd) 단일원소 표준용액 Cadmium (Cd) standard solution 165,000원
칼슘(Ca) 단일원소 표준용액 Calcium (Ca) standard solution 165,000원
크로뮴 단일원소 표준용액 Chromium (Cr) standard solution 165,000원
코발트 단일원소 표준용액 Cobalt (Co) Standard Solution 165,000원
구리 단일원소 표준용액 Copper (Cu) standard solution 165,000원
세슘(Cs) 단일원소 표준용액 Cesium (Cs) standard solution 165,000원
저마늄(게르마늄, Ge) 단일원소 표준용액 Germanium (Ge) standard solution 165,000원
철(Fe) 단일원소 표준용액 Iron (Fe) standard solution 165,000원
납 단일원소 표준용액 Lead (Pb) standard solution 165,000원
리튬(Li) 단일원소 표준용액 Lithium (Li) standard solution 165,000원
마그네슘(Mg) 단일원소 표준용액 Magnesium (Mg) standard solution 165,000원
망가니즈 (망간) 단일원소 표준용액 Manganese (Mn) standard solution 165,000원
수은 단일원소 표준용액 Mercury (Hg) standard solution 165,000원
몰리브데넘 단일원소 표준용액 Molybdenum (Mo) standard solution 165,000원
니켈(Ni) 단일원소 표준용액 Nicekl (Ni) standard solution 165,000원
인 단일원소 표준용액 Phosphorus (P) standard solution 165,000원
포타슘(칼륨) 단일원소 표준용액 Potassium (K) standard solution 165,000원
셀레늄 단일원소 표준용액 Selenium (Se) standard solution 165,000원
규소 단일원소 표준용액 Silicon (Si) standard solution 165,000원
은(Ag) 단일원소 표준용액 Silver (Ag) standard solution 165,000원
소듐(나트륨) 단일원소 표준용액 Sodium (Na) standard solution 165,000원
주석 단일원소 표준용액 Tin (Sn) standard solution 165,000원
타이타늄 단일원소 표준용액 Titanium (Ti) standard solution 165,000원
텅스텐 단일원소 표준용액 Tungsten (W) Standard solution 165,000원
바나듐 단일원소 표준용액 Vanadium (V) standard solution 165,000원
아연 (Zn) 단일원소 표준용액 Zinc (Zn) standard solution 165,000원
바륨(Ba) 단일원소 표준용액 Barium (Ba) standard solution 165,000원
갈륨(Ga) 단일원소 표준용액 Gallium (Ga) standard solution 165,000원
인듐(In) 단일원소 표준용액 Indium (In) standard solution 165,000원
규소 (규산염 용액 형태) 단일원소 표준용액 Silicon, Si (Silicate solution type) standard solution 165,000원
가돌리늄(Gd) 단일원소 표준용액 Gadolinium(Gd) standard solution 165,000원
플루오린화 이온 표준용액 Fluoride anion (F^-) standard solution 165,000원
염화 이온(Cl^-) 표준용액 Chloride anion (Cl^-) standard solution 165,000원
브로민화 이온 표준용액 Bromide anion (Br^-) standard solution 165,000원
질산 이온 표준용액 Nitrate anion (NO₃^-)standard solution 165,000원
인산이온 표준용액 Phosphate anion(PO₄^3-) Standard Solution 165,000원
황산 이온(SO₄^2-) 표준용액 Sulfate anion (SO₄^2-) standard solution 165,000원
아질산 이온(NO₂^-) 표준용액 Nitrite anion (NO₂^-) standard solution 198,000원
암모늄 이온 표준용액 Ammonium cation (NH₄⁺) standard solution 165,000원
아질산 이온(NO₂^-) 표준용액 Nitrite Anion (NO₂^-) standard solution 165,000원
하이드라진 표준용액 Hydrazine standard solution 165,000원
구리 동위원소비 표준용액 Copper (Cu) isotopic standard solution 220,000원
6가 크로뮴 분석용 규조토 분말 Diatomaceous Earth Powder for Hexavalent Chromium Analysis 385,000원
리튬 배터리 양극재 NMC 811 Lithium battery cathode material NMC 811 440,000원
쌀 분말 (원소 분석용) Rice Powder for Element Analysis 253,000원
콩 분말 (원소 분석용) Soybean Powder for Element Analysis 253,000원
밀가루 (원소 분석용) Wheat Flour for Elemental Analysis 385,000원
쌀 분말 (유기영양성분 분석용) Rice Flour (for the analysis of nutrients) 275,000원
쌀 분말 (원소 분석용) Rice flour for elemental analysis 330,000원
밀가루 (유기영양성분 분석용) Wheat Flour (for the analysis of nutrients) 330,000원
옥수수가루 (데옥시니발레놀 등 B형 트리코테신 분석용) Corn Flour for the Analysis of Deoxynivalenol and Other Type B Trichothecenes 499,400원
옥수수가루 (제랄레논 및 대사체 분석용) Corn Flour for the Analysis of Zearalenone and its Metabolites 550,000원
조제분유 (유기영양소 분석용) Infant Formula for the Analysis of Organic Nutrients 550,000원
조제분유(원소 분석용) Infant formula for elemental analysis 407,000원
아크릴아마이드 분석용 조제분유 385,000원
닭고기 분말 엔로플록사신 분석용 인증표준물질 Chicken meat powder for enrofloxacin analysis 275,000원
닭고기 분말 시프로플록사신 분석용 인증표준물질 Chicken meat powder for ciprofloxacin analysis 275,000원
돼지고기 분말 (원소 분석용) Pork Powder for Elemental Analysis 385,000원
소고기 분말 퀴놀론계 항생제 분석용 인증표준물질 Beef powder for the analysis of quinolone antibiotics 550,000원
굴 분말 (원소 분석용) Oyster powder for elemental analysis 418,000원
시금치 분말 (유기영양성분 분석용) Spinach Flour (for the analysis of nutrients) 275,000원
배추 분말 (유기영양성분 분석용) Kimchi Cabbage Powder (for the anlaysis of nutrients) 275,000원
배추분말 (잔류농약 분석용) Kimchi cabbage powder for the analysis of pesticide residues 495,000원
배추 분말 (원소 분석용) Kimchi Cabbage Powder for Elemental Analysis 385,000원
잔류농약분석용 시금치 분말 Spinach power for analysis of pesticides 880,000원
잔류농약 분석용 딸기 분말 Strawberry Powder for the Analysis of Pesticide Residues 385,000원
식품 첨가물 분석용 차음료 Blended tea beverage for the analysis of food additives 165,000원
감자칩 (아크릴아마이드 분석용) Potato chip paste (For the analysis of acrylamide) 275,000원
원소 분석용 첨가 인삼 분말 Fortified Ginseng Powder for Element Analysis 253,000원
버섯 분말 (원소 분석용) Mushroom powder for elemental analysis 253,000원
된장분말 (오크라톡신 A 분석용) Fermented soybean paste for the analysis of Ochratoxin A 275,000원
종합영양제분말 (유기영양소 분석용) Multivitamin powder for the analysis of organic nutrients (vitamins) 330,000원
김치 (원소 분석용) Kimchi for elemental analysis 330,000원
커피콩 분말(원소 분석용) Coffee bean powder for elemental analysis 363,000원
콩기름 (다환방향족탄화수소 분석용) Soybean oil for the Analysis of PAHs 330,000원
콩기름 (다환방향족 탄화수소 분석용) Soybean oil for the Analysis of PAHs 330,000원
악취 VOCs [Nitrogen] ordorous VOCs [Nitrogen] (실비)
Hazardous Air Pollutant (HAPS) [Nitrogen] Hazardous Air Pollutant (HAPS) [Nitrogen] (실비)
도시미세먼지 Urban Particulate Matters 660,000원
지하철 역사 미세먼지 Subway Station Particulate Matter 660,000원
호소 퇴적물 Lake Sediment 715,000원
실내공기질 VOCs indoor VOCs (실비)
인간 혈청(혈당 분석용-I) Glucose in frozen human serum Level I 66,000원
인간 혈청(혈당 분석용-II) Glucose in frozen human serum Level II 66,000원
인간 혈청(혈당 분석용-IV) Glucose in frozen human serum, Level IV 66,000원
지질 분석용 인간 혈청, Level Ⅰ Lipids in human serum, Level I 165,000원
지질 분석용 인간 혈청, Level II Lipids in Human Serum, Level II 165,000원
냉동 혈청 중 크레아티닌, Level I Creatinine in Frozen Human Serum, Level I 165,000원
냉동 혈청 중 크레아티닌, Level II Creatinine in Frozen Human Serum, Level II 165,000원
동결 인간 혈장 Frozen Human Plasma 880,000원
아미노산 분석용 동결 인간 혈장 Frozen Human Plasma for Amino Acid Analysis 770,000원
단당 분석용 동결 인간 혈청 Frozen Human Serum for Monosaccharide Analysis ( glucose, galactose) 550,000원
대사체 분석용 인간 건조 혈반 Metabolites in Human Dried Blood Spots 275,000원
혈당측정기용 포도당용액 (Level 1) Glucose Solution for Glucometer (Level 1) 33,000원
혈당측정기용 포도당용액 (Level 2) Glucose Solution for Glucometer (Level 2) 33,000원
혈당측정기용 포도당용액 (Level 3) Glucose Solution for Glucometer (Level 3) 33,000원
Acetaminophen/Ibuprofen 분석용 진통제 분말 Analgesic Powder for the Analysis of Acetaminophen and Ibuprofen 220,000원
다운증후군 산전검사용 혈청 내 DNA 혼합물 Human DNA mixture in serum for non-invasive prenatal test of Down syndrome(T21) 550,000원
코로나-19 바이러스 (SARS-CoV-2) 포장 RNA SARS-CoV-2 packaged RNA 880,000원
노로바이러스 GI RNA Norovirus GI RNA 165,000원
노로바이러스 GII RNA 165,000원
인간 알파코로나 바이러스 229E RNA Human Alphacoronavirus 229E RNA 165,000원
인간 리노바이러스 (Human rhinovirus) RNA Human rhinovirus RNA 165,000원
리프트밸리열바이러스 계열 A RNA RVFV lineage A RNA 550,000원
유화물질, fat fraction I (의료영상기기용) Emulsion, fat fraction I (for medical imaging) 385,000원
유화물질, fat fraction II (의료영상기기용) Emulsion, fat fraction II (for medical imaging) 385,000원
유화물질, fat fraction III (의료영상기기용) Emulsion, fat fraction III (for medical imaging) 385,000원
자기공명영상 T1 특성 평가용 인증표준물질 CRM for MRI T1 characteristic evaluation 3,347,300원
Acetylene (C₂H₂) [Nitrogen] Acetylene (C₂H₂) [Nitrogen] (실비)
불활성기체: Argon (Ar) [Air, Helium, Nitrogen] Noble gas: Argon (Ar) [Air, Helium, Nitrogen] (실비)
불활성기체: Argon (Ar) [Air, Helium, Nitrogen] Noble gas: Argon (Ar) [Air, Helium, Nitrogen] (실비)
1,3-Butadiene (C4H6) [Nitrogen, Air] 1,3-Butadiene (C4H6) [Nitrogen, Air] (실비)
1-Butene (C4H8) [Nitrogen, Air] 1-Butene (C4H8) [Nitrogen, Air] (실비)
c-2-Butene (C4H8) [Nitrogen, Air] c-2-Butene (C4H8) [Nitrogen, Air] (실비)
i-Butane (C4H10) [Nitrogen, Air] i-Butane (C4H10) [Nitrogen, Air] (실비)
i-Butane (C4H10) [Nitrogen, Air] i-Butane (C4H10) [Nitrogen, Air] (실비)
n-Butane (C4H10) [Nitrogen, Air] n-Butane (C4H10) [Nitrogen, Air] (실비)
n-Butane (C4H10) [Propane] n-Butane (C4H10) [Propane] (실비)
n-Butane (C4H10), Ethane (C2H6), Nitrogen (N2), Propane (C3H8) [Methane] n-Butane (C4H10), Ethane (C2H6), Nitrogen (N2), Propane (C3H8) [Methane] (실비)
t-2-Butene (C4H8) [Nitrogen, Air] t-2-Butene (C4H8) [Nitrogen, Air] (실비)
Carbon Dioxide (CO2) [Nitrogen, Argon, Helium, Hydrogen] Carbon Dioxide (CO2) [Nitrogen, Argon, Helium, Hydrogen] (실비)
Carbon Monoxide (CO) [Nitrogen, Argon, Helium, Hydrogen] Carbon Monoxide (CO) [Nitrogen, Argon, Helium, Hydrogen] (실비)
Carbon Monoxide (CO) [Nitrogen, Argon, Helium, Hydrogen] Carbon Monoxide (CO) [Nitrogen, Argon, Helium, Hydrogen] (실비)
Carbon Monoxide (CO) [Methane] Carbon Monoxide (CO) [Methane] (실비)
Carbon Monoxide (CO) [Nitrogen] Carbon Monoxide (CO) [Nitrogen] (실비)
Carbon Monoxide (CO) [Air] Carbon Monoxide (CO) [Air] (실비)
(CF₃)₂CFCN [Carbon Dioxide, Oxygen] (CF₃)₂CFCN [Carbon Dioxide, Oxygen] (실비)
Ethane (C2H6), Methane (CH4) [Propylene] Ethane (C2H6), Methane (CH4) [Propylene] (실비)
Ethane (C2H6) [Nitrogen, Air] Ethane (C2H6) [Nitrogen, Air] (실비)
Ethane (C2H6) [Nitrogen, Methane] Ethane (C2H6) [Nitrogen, Methane] (실비)
Ethylene (C2H4) [Nitrogen, Air] Ethylene (C2H4) [Nitrogen, Air] (실비)
Hexane (C6H14) [Methane, Air] Hexane (C6H14) [Methane, Air] (실비)
Hydrogen (H2) [Methane, Argon] Hydrogen (H2) [Methane, Argon] (실비)
Hydrogen (H2) [Helium, Argon, Nitrogen] Hydrogen (H2) [Helium, Argon, Nitrogen] (실비)
Hydrogen (H2) [Methane] Hydrogen (H2) [Methane] (실비)
불활성기체: Krypton (Kr) [Nitrogen, Air, Helium] Noble gas: Krypton (Kr) [Nitrogen, Air, Helium] (실비)
Methane (CH4) [Nitrogen, Air] Methane (CH4) [Nitrogen, Air] (실비)
Methane (CH4) [Argon] Methane (CH4) [Argon] (실비)
불활성기체: Neon (Ne) [Nitrogen] Noble gas: Neon (Ne) [Nitrogen] (실비)
Nitrogen (N2) [Oxygen] Nitrogen (N2) [Oxygen] (실비)
Nitrogen (N2) [Helium] Nitrogen (N2) [Helium] (실비)
Nitrogen (N2) [Helium, Argon, Hydrogen] Nitrogen (N2) [Helium, Argon, Hydrogen] (실비)
Nitrogen (N2) [Helium, Argon, Hydrogen, Methane] Nitrogen (N2) [Helium, Argon, Hydrogen, Methane] (실비)
Nitrogen (N2) [Methane] Nitrogen (N2) [Methane] (실비)
Nitrogen (N2) [Methane] Nitrogen (N2) [Methane] (실비)
Nitrous Oxide (N2O) [Nitrogen, Air, Helium] Nitrous Oxide (N2O) [Nitrogen, Air, Helium] (실비)
Nitrous Oxide (N2O) [Nitrogen, Air, Helium] Nitrous Oxide (N2O) [Nitrogen, Air, Helium] (실비)
Oxygen (O2) [Nitrogen] Oxygen (O2) [Nitrogen] (실비)
Oxygen (O2) [Helium] Oxygen (O2) [Helium] (실비)
Oxygen (O2) [Nitrogen] Oxygen (O2) [Nitrogen] (실비)
Oxygen (O2) [Argon] Oxygen (O2) [Argon] (실비)
i-Pentane (C5H12) [Nitrogen] i-Pentane (C5H12) [Nitrogen] (실비)
n-Pentane (C5H12) [Nitrogen] n-Pentane (C5H12) [Nitrogen] (실비)
Propane (C3H8) [Nitrogen, Air] Propane (C3H8) [Nitrogen, Air] (실비)
Propane (C3H8) [Methane] Propane (C3H8) [Methane] (실비)
Propylene (C3H6) [Nitrogen, Air] Propylene (C3H6) [Nitrogen, Air] (실비)
Propylene (C3H6) [Nitrogen] Propylene (C3H6) [Nitrogen] (실비)
Trifluorobromomethane (CBrF3) [Nitrogen, Air] Trifluorobromomethane (CBrF3) [Nitrogen, Air] (실비)
Trifluoromethane (CHF3) [Nitrogen] Trifluoromethane (CHF3) [Nitrogen] (실비)
Water (H2O) [Nitrogen, Air] Water (H2O) [Nitrogen, Air] (실비)
Water (H2O) [Nitrogen, Air] Water (H2O) [Nitrogen, Air] (실비)
Water (H2O) [LNG] Water (H2O) [LNG] (실비)
Water (H2O) [Methane] Water (H2O) [Methane] (실비)
불활성기체: Xenon (Xe) [Nitrogen] Noble gas: Xenon (Xe) [Nitrogen] (실비)
헬륨 동위원소 비율 Helium Isotope Ratio (실비)
원전공정가스: Hydrogen (H2), Nitrogen (N2), Oxygen (O2) [Helium] Hydrogen (H2), Nitrogen (N2), Oxygen (O2) [Helium] (실비)
원전공정가스: Deuterium (D2), Nitrogen (N2), Oxygen (O2) [Helium] Deuterium (D2), Nitrogen (N2), Oxygen (O2) [Helium] (실비)
반도체가스: Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] (실비)
반도체가스: Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] (실비)
반도체가스: Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] (실비)
반도체가스: Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen, Air, He] (실비)
반도체가스: Nitrogen trifluoride (NF₃) [Nitrogen, Air] Nitrogen trifluoride (NF₃) [Nitrogen, Air] (실비)
반도체가스: Nitrogen trifluoride (NF₃) [Nitrogen] Nitrogen trifluoride (NF₃) [Nitrogen] (실비)
반도체가스: Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen] Sulfur hexafluoride (SF6) [Nitrogen] (실비)
반도체가스: Nitrogen trifluoride (NF₃) [Air] Nitrogen trifluoride (NF₃) [Air] (실비)
반도체가스: Carbon tetrafluoride (CF4), Nitrogen trifluoride (NF₃), Sulfur hexafluoride (SF6) [Air] Carbon tetrafluoride (CF4), Nitrogen trifluoride (NF₃), Sulfur hexafluoride (SF6) [Air] (실비)
냉매: 1,1,1-Trichloro-2,2,2-trifluoroethane (C₂Cl₃F₃) [Nitrogen, Air] 1,1,1-Trichloro-2,2,2-trifluoroethane (C₂Cl₃F₃) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Dichlorodifluoromethane (CCl₂F₂) [Nitrogen, Air] Dichlorodifluoromethane (CCl₂F₂) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Trichlorofluoromethane (CCl₃F) [Nitrogen, Air] Trichlorofluoromethane (CCl₃F) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: CClF₂CClF₂ [Nitrogen, Air] CClF₂CClF₂ [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Chlorotrifluoromethane (CClF₃) [Nitrogen, Air] Chlorotrifluoromethane (CClF₃) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: CF₃CF₂CF₃ [Nitrogen, Air] CF₃CF₂CF₃ [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: hexafluoroethane (CF₃CF₃) [Nitrogen, Air] hexafluoroethane (CF₃CF₃) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Carbon tetrafluoride (CF₄) [Nitrogen, Air] Carbon tetrafluoride (CF₄) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Carbon tetrafluoride (CF₄) [Nitrogen, Air] Carbon tetrafluoride (CF₄) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Dichlorofluoromethane (CHCl₂F) [Nitrogen, Air] Dichlorofluoromethane (CHCl₂F) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Chlorodifluoromethane (CHClF₂) [Nitrogen, Air] Chlorodifluoromethane (CHClF₂) [Nitrogen, Air] (실비)
냉매: Fluoroform (CHF₃) [Nitrogen, Air] Fluoroform (CHF₃) [Nitrogen, Air] (실비)
온실가스: Trichlorofluoromethane (CCl3F) [Air] Trichlorofluoromethane (CCl3F) [Air] (실비)
온실가스: CFC-11 [Air] CFC-11 [Air] (실비)
온실가스: CFC-113 [Air] CFC-113 [Air] (실비)
온실가스: CFC-12 [Air] CFC-12 [Air] (실비)
온실가스: Methane (CH4), Carbon Dioxide (CO2), Nitrous Oxide (N2O) [Nitrogen] Methane (CH4), Carbon Dioxide (CO2), Nitrous Oxide (N2O) [Nitrogen] (실비)
자동차배기가스: Carbon Dioxide (CO2), Carbon Monoxide (CO), Oxygen (O2), Propane (C3H8) [Nitrogen] Carbon Dioxide (CO2), Carbon Monoxide (CO), Oxygen (O2), Propane (C3H8) [Nitrogen] (실비)
LPG 분석용: Ethane (C2H6), Ethylene (C2H4), iso Butane (C4H10), n-Butane (C4H10), 1-butene (C4H8), iso-butene (C4H8), iso Pentane (C5H12), n-Pentane (C5H12) [Propane] Ethane (C2H6), Ethylene (C2H4), iso Butane (C4H10), n-Butane (C4H10), 1-butene (C4H8), iso-butene (C4H8), iso Pentane (C5H12), n-Pentane (C5H12) [Propane] (실비)
Natural gas 분석용: 1,3-Butadiene (C4H6), Ethane (C2H6), Propylene (C3H6), c-2-Butene (C4H8), i-Butane (C4H10), isoButene (i-C4H8), isopentane (i-C5H12), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), t-2-Butene (C4H8) [Propane] 1,3-Butadiene (C4H6), Ethane (C2H6), Propylene (C3H6), c-2-Butene (C4H8), i-Butane (C4H10), isoButene (i-C4H8), isopentane (i-C5H12), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), t-2-Butene (C4H8) [Propane] (실비)
Natural gas 분석용: Ethane (C2H6), Propane (C3H8), c-2-Butene (C4H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), isopentane (i-C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), t-2-Butene (C4H8) [Methane] Ethane (C2H6), Propane (C3H8), c-2-Butene (C4H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), isopentane (i-C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), t-2-Butene (C4H8) [Methane] (실비)
Natural gas 분석용: Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), i-Pentane (C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), n-Hexane (C6H14) [Methane] Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), i-Pentane (C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), n-Hexane (C6H14) [Methane] (실비)
Natural gas 분석용: Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), i-Pentane (C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), n-Hexane (C6H14), n-Heptane (C7H16) [Methane] Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), i-Pentane (C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), n-Hexane (C6H14), n-Heptane (C7H16) [Methane] (실비)
Natural gas 분석용: Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), i-Pentane (C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), n-Hexane (C6H14), n-Heptane (C7H16), n-Octane (C8H18), n-Nonane (C9H20) [Methane] Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Carbon Dioxide (CO2), i-Butane (C4H10), i-Pentane (C5H12), Nitrogen (N2), n-Butane (C4H10), n-Pentane (C5H12), n-Hexane (C6H14), n-Heptane (C7H16), n-Octane (C8H18), n-Nonane (C9H20) [Methane] (실비)
절연류가스 분석용: Acetylene (C₂H₂), Propene (C3H6), i-Butene (C4H8), t-Butene (C4H8), 1,3-Butadiene (C4H6), 1-Butene (C4H8), Ethylene (C2H4), c-2-Butene (C4H8) [Methane] Acetylene (C₂H₂), Propene (C3H6), i-Butene (C4H8), t-Butene (C4H8), 1,3-Butadiene (C4H6), 1-Butene (C4H8), Ethylene (C2H4), c-2-Butene (C4H8) [Methane] (실비)
Acetylene (C₂H₂), Ethylene (C2H4), Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Methane (CH4), Carbon Monoxide (CO), Carbon Dioxide (CO2), Hydrogen (H2), Nitrogen (N2), Oxygen (O2) [Argon] Acetylene (C₂H₂), Ethylene (C2H4), Ethane (C2H6), Propane (C3H8), Methane (CH4), Carbon Monoxide (CO), Carbon Dioxide (CO2), Hydrogen (H2), Nitrogen (N2), Nitrogen (N2), Oxygen (O2) [Argon] (실비)
Tetrafluorosilane(SiF₄) [Nitrogen] Tetrafluorosilane(SiF₄) [Nitrogen] 2,860,000원
Phosphine (PH₃) [Nitrogen] Phosphine (PH₃) [Nitrogen] 2,860,000원
Diborane (B₂H₆) [Helium] Diborane (B₂H₆) [Helium] 2,860,000원
Iron pentacarbonyl (Fe(CO)₅) [He] (실비)
불화수소 HF [N₂, He] Hydrogen fluoride, fluoric acid, HF [N₂, He] (실비)
다이플루오로메테인, CH₂F₂ [He] Difluoromethane, CH₂F₂ [He] (실비)
헥사플루오로-1,3-부타디엔, C₄F₆ [He] Hexafluoro-1,3-butadiene, C₄F₆ [He] (실비)
옥타플루오로사이클로부탄, C₄F₈ [He] Octafluorocyclobutane, C₄F₈ [He] (실비)
Nitrous Oxide (N₂O) [Air] Nitrous Oxide (N₂O) [Air] (실비)
Acetaldehyde (CH3CHO) [Nitrogen] Acetaldehyde (CH3CHO) [Nitrogen] (실비)
Acetic acid (CH₃COOH) [Nitrogen] Acetic acid (CH₃COOH) [Nitrogen] (실비)
Ammonia (NH3) [Nitrogen] Ammonia (NH3) [Nitrogen] (실비)
Benzene (C6H6) [Nitrogen] Benzene (C6H6) [Nitrogen] (실비)
Chlorobenzene (C6H5Cl) [Nitrogen] Chlorobenzene (C6H5Cl) [Nitrogen] (실비)
1.2-Dichlorobenzene (C6H4Cl2) [Nitrogen] 1.2-Dichlorobenzene (C6H4Cl2) [Nitrogen] (실비)
Ethyl Benzene (C8H10) [Nitrogen] Ethyl Benzene (C8H10) [Nitrogen] (실비)
Trichlorobenzene (C6H3Cl3) [Nitrogen] Trichlorobenzene (C6H3Cl3) [Nitrogen] (실비)
Carbon Dioxide (CO2) [Air] Carbon Dioxide (CO2) [Air] (실비)
Carbon Dioxide (CO2), Methane (CH4) [Nitrogen, Air] Carbon Dioxide (CO2), Methane (CH4) [Nitrogen, Air] (실비)
Carbon Monoxide (CO), Nitrogen Dioxide (NO2), Nitrogen Monoxide (NO), Sulfur Dioxide (SO₂) [Nitrogen] Carbon Monoxide (CO), Nitrogen Dioxide (NO2), Nitrogen Monoxide (NO), Sulfur Dioxide (SO₂) [Nitrogen] (실비)
Trichloro-trifluoro ethane (C2Cl3F3) [Nitrogen, Air] Trichloro-trifluoro ethane (C2Cl3F3) [Nitrogen, Air] (실비)
Dichlorodifluoromethane (CCl₂F₂) [Nitrogen, Air] Dichlorodifluoromethane (CCl₂F₂) [Nitrogen, Air] (실비)
Trichlorofluoromethane (CCl₃F) [Nitrogen, Air] Trichlorofluoromethane (CCl₃F) [Nitrogen, Air] (실비)
Carbontetrachloride (CCl4) [Nitrogen] Carbontetrachloride (CCl4) [Nitrogen] (실비)
Carbonyl Sulfide (COS) [Nitrogen] Carbonyl Sulfide (COS) [Nitrogen] (실비)
Methyl Mercaptan(CH3SH), Carbonyl sulfide (COS), Hydrogen Sulfide (H₂S) [Methane] Methyl Mercaptan(CH3SH), Carbonyl sulfide (COS), Hydrogen Sulfide (H₂S) [Methane] (실비)
Cyclohexane (C6H12) [Nitrogen] Cyclohexane (C6H12) [Nitrogen] (실비)
Dimethyl Sulfide (C2H6S) [Nitrogen] Dimethyl Sulfide (C2H6S) [Nitrogen] (실비)
Dimethyl Disulfide (C2H6S2) [Nitrogen] Dimethyl Disulfide (C2H6S2) [Nitrogen] (실비)
Dimethyl Disulfide (C2H6S2), Dimethyl Sulfide (C2H6S) [Nitrogen] Dimethyl Disulfide (C2H6S2), Dimethyl Sulfide (C2H6S) [Nitrogen] (실비)
Hydrogen Chloride (HCl) [Nitrogen] Hydrogen Chloride (HCl) [Nitrogen] (실비)
Hydrogen Sulfide (H₂S) [Nitrogen] Hydrogen Sulfide (H₂S) [Nitrogen] (실비)
Hydrogen Sulfide (H₂S), Methyl Mercaptan (CH3SH) [Nitrogen] Hydrogen Sulfide (H₂S), Methyl Mercaptan (CH3SH) [Nitrogen] (실비)
Methane (CH4) [Air] Methane (CH4) [Air] (실비)
Methyl Alcohol (CH3OH) [Nitrogen] Methyl Alcohol (CH3OH) [Nitrogen] (실비)
Methyl ethyl sulfide (C3H8S) [Nitrogen] Methyl ethyl sulfide (C3H8S) [Nitrogen] (실비)
Methyl Mercaptan (CH3SH) [Nitrogen] Methyl Mercaptan (CH3SH) [Nitrogen] (실비)
Nitrogen Dioxide (NO2) [Nitrogen, Air] Nitrogen Dioxide (NO2) [Nitrogen, Air] (실비)
Nitrogen Dioxide (NO2) [Nitrogen, Air] Nitrogen Dioxide (NO2) [Nitrogen, Air] (실비)
Nitrogen Monoxide (NO) [Nitrogen] Nitrogen Monoxide (NO) [Nitrogen] (실비)
Nitrogen Monoxide (NO) [Nitrogen] Nitrogen Monoxide (NO) [Nitrogen] (실비)
Nitrogen Monoxide (NO) [Helium] Nitrogen Monoxide (NO) [Helium] (실비)
Nitrous Oxide (N₂O) [Nitrogen, Air, Helium] Nitrous Oxide (N₂O) [Nitrogen, Air, Helium] (실비)
m-Xylene (C8H10) [Nitrogen] m-Xylene (C8H10) [Nitrogen] (실비)
o-Xylene (C8H10) [Nitrogen] o-Xylene (C8H10) [Nitrogen] (실비)
p-Xylene (C8H10) [Nitrogen] p-Xylene (C8H10) [Nitrogen] (실비)
Styrene (C8H8) [Nitrogen] Styrene (C8H8) [Nitrogen] (실비)
Sulfur Dioxide (SO₂) [Air] Sulfur Dioxide (SO₂) [Air] (실비)
Sulfur Dioxide (SO₂) [Air] Sulfur Dioxide (SO₂) [Air] (실비)
Sulfur Dioxide (SO₂) [Nitrogen] Sulfur Dioxide (SO₂) [Nitrogen] (실비)
Sulfur Dioxide (SO₂) [Nitrogen] Sulfur Dioxide (SO₂) [Nitrogen] (실비)
tetra-Butylmercaptan ((CH3)3CSH) [Nitrogen, Methane] tetra-Butylmercaptan ((CH3)3CSH) [Nitrogen, Methane] (실비)
tert-Butylmercaptan ((CH3)3CSH), Tetrahydrothiophene (C4H8S) [Nitrogen, Methane] tert-Butylmercaptan ((CH3)3CSH), Tetrahydrothiophene (C4H8S) [Nitrogen, Methane] (실비)
Methyl ethyl sulfide (CH3SC2H5), Ethyl mercaptan (C2H5SH) [Nitrogen] Methyl ethyl sulfide (CH3SC2H5), Ethyl mercaptan (C2H5SH) [Nitrogen] (실비)
Tetrachloroethylene (C2Cl4) [Nitrogen] Tetrachloroethylene (C2Cl4) [Nitrogen] (실비)
Tetrahydrothiophene (C4H8S) [Nitrogen, Methane] Tetrahydrothiophene (C4H8S) [Nitrogen, Methane] (실비)
Toluene (C7H8) [Nitrogen] Toluene (C7H8) [Nitrogen] (실비)
Trichloromethane (CHCl3) [Nitrogen] Trichloromethane (CHCl3) [Nitrogen] (실비)
Acetonitrile [Nitrogen, Air] Acetonitrile [Nitrogen, Air] (실비)
Ethyl Alcohol (C2H5OH) [Nitrogen] Ethyl Alcohol (C2H5OH) [Nitrogen] (실비)
Ethyl Alcohol (C2H5OH) [Air] Ethyl Alcohol (C2H5OH) [Air] (실비)
Hydrogen Impurity Hydrogen Impurity (실비)
Oxygen Impurity Oxygen Impurity (실비)
Nitrogen Impurity Nitrogen Impurity (실비)
Heluim Impurity Heluim Impurity (실비)
Argon Impurity Argon Impurity (실비)
N₂O Impurity N₂O Impurity (실비)
CH₄ Impurity CH₄ Impurity (실비)
맞춤형 표준가스 Customized reference gas (실비)
원소분석용 ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene) ABS (Acrylonitrile Butadiene Styrene) for elemental analysis 385,000원
원소분석용 ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene) ABS (Acrylonitrile Butadiene Styrene) for elemental analysis 385,000원
Bisphenol 분석용 PC/ABS PC/ABS for the Analysis of Bisphenols 385,000원
Bisphenol 분석용 PC/ABS (Level II) PC/ABS for the Analysis of Bisphenols (Level II) 385,000원
HBCD 분석용 HIPS HIPS for the Analysis of HBCD 220,000원
다환방향족 탄화수소 분석용 HIPS HIPS for the analysis of PAHs 550,000원
PVC (유해유기물질 분석용) PVC for the Analysis of Hazardous Organic Substances 440,000원
발전소 증기발생기 취출수(원소 분석용) 550,000원
원자로 냉각재 계통수(음이온 분석용) Ordinary water of reactor coolant system for anion analysis 550,000원
원자로 냉각재 계통수(원소 분석용) Ordinary water of reactor coolant system for elemental analysis 550,000원
발전소 증기발생기 취출수(음이온 분석용) Steam generator blowdown water of power plant for anion analysis 550,000원
가압경수로 냉각재 붕산수(원소 분석용) Borated water for elemental analysis in PWR coolant systems 550,000원
실리콘 카바이드 열확산도 표준물질 Thermal diffusivity CRM made of silicon carbide 880,000원
폴리염화비닐 시트 열확산도 표준물질 Thermal diffusivity CRM made of polyvinyl chloride sheet 440,000원
그라파이트 복합체 열확산도 표준물질 Thermal diffusivity CRM made of graphite composite 440,000원
실리콘 카바이드 열확산도 표준물질 (2.0 mm) Thermal diffusivity CRM made of silicon carbide (2.0 mm) 330,000원
실리콘 카바이드 열확산도 표준물질 (1.5 mm) Thermal diffusivity CRM made of silicon carbide (1.5 mm) 330,000원
실리콘 카바이드 열확산도 표준물질 (2.5 mm) Thermal diffusivity CRM made of silicon carbide (2.5 mm) 330,000원
H-3 용액 방사능인증표준물질 H-3 CRM (radioactive solution) (실비)
C-14 용액 방사능인증표준물질 C-14 CRM (radioactive solution) (실비)
Sr-89 용액 방사능인증표준물질 Sr-89 CRM (radioactive solution) (실비)
Sr-90 용액 방사능 인증표준물질 Sr-90 CRM (radioactive solution) (실비)
Cl-36 용액 방사능인증표준물질 Cl-36 CRM (radioactive solution) (실비)
Na-22 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Cr-51 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Mn-54 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Co-57 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Co-58 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Co-60 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Zn-65 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Se-75 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Sr-85 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Y-88 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Sn-113 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Cd-109 용액 방사능인증표준물질 (실비)
I-125 용액 방사능인증표준물질 (실비)
I-131 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Ba-133 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Cs-134 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Cs-137 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Eu-152 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Ce-139 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Ge-68 용액 방사능인증표준물질 (실비)
In-111m 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Ho-166m 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Ir-192 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Ra-226 용액 방사능 인증표준물질 (실비)
Am-241 용액 방사능인증표준물질 (실비)
핵종 단일 용액 방사능인증표준물질 (실비)
감마선 혼합 핵종 용액 방사능인증표준물질 (실비)
Na-22 점 방사능인증표준물질 (실비)
Mn-54 점 방사능인증표준물질 (실비)
Co-57 점 방사능인증표준물질 (실비)
Co-60 점 방사능인증표준물질 (실비)
Zn-65 점 방사능인증표준물질 (실비)
Se-75 점 방사능인증표준물질 (실비)
Sr-85 점 방사능인증표준물질 (실비)
Y-88 점 방사능인증표준물질 (실비)
Cd-109 점 방사능인증표준물질 (실비)
I-125 점 방사능인증표준물질 (실비)
Ba-133 점 방사능인증표준물질 (실비)
Cs-134 점 방사능인증표준물질 (실비)
Cs-137 점 방사능인증표준물질 (실비)
Ce-139 점 방사능인증표준물질 (실비)
Eu-152 점 방사능인증표준물질 (실비)
Ho-166m 점 방사능인증표준물질 (실비)
Am-241 점 방사능인증표준물질 (실비)
Ir-192 점 방사능인증표준물질 (실비)
Cr-51 점 방사능인증표준물질 (실비)
Mn-54 점 방사능인증표준물질 (실비)
Co-57 점 방사능인증표준물질 (실비)
Am-241 점 방사능인증표준물질 (실비)
Sn-113 방사능인증표준물질 (실비)
Co-58 점 표준선원 (실비)
K-40 점 표준선원 (실비)
Zr-95 점 표준선원 (실비)
Fe-55 점 방사능인증표준물질 (실비)
핵종 단일 점 표준선원 (실비)
[MB1L/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[MB2L/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[MB450/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CB20/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[CF40/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[PF50/건조] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[GMB/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CB1L/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CF45/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[PF47/건조] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[MB1LN/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 2,200,000원
감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 2,200,000원
[CB05/종이필터]감마선 방출 혼합 핵종 (10개) 방사능 인증표준물질 2,200,000원
[CB40/고상]감마선 방출 혼합 핵종(10개) 방사능 인증표준물질 2,200,000원
[WBC/고상]전신계수기 교정용 감마선 방출 핵종 혼합(7개) 방사능 인증표준물질 2,750,000원
[RCS/고상]원자로 냉각수 분석용 감마선 방출 핵종 혼합 방사능 인증표준물질 2,750,000원
[MB1LF/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[PNT10/건조] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[주문용기/고상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 2,750,000원
[MB1L/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[MB2L/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[MB450/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CB20/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[CF40/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[GMB/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CB1L/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CF45/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,100,000원
[MB1LN/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[MB2LN/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[CB40/액상]감마선 방출 혼합 핵종(10개) 방사능 인증표준물질 2,200,000원
[MB1LF/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 1,650,000원
[주문용기/액상] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 2,750,000원
[주문용기/기타] 감마선 방출 핵종 혼합(10개) 방사능 인증표준물질 (실비)
콘크리트(powder) 방사능 인증표준물질(KRISS 2203CP-1) Batch-type (Concrete powder) Certified Reference Materials for Gamma-emitting Radionuclide Measurement (KRISS 2203CP-1) 2,200,000원
콘크리트(ball) 방사능 표준물질(KRISS 2203CB-1) Batch-type (Concrete ball) Reference Materials for Gamma-emitting Radionuclide Measurement (KRISS 2203CB-1) 2,200,000원
콘크리트(ball) 방사능 표준물질(KRISS 2203CB-2) Batch-type (Concrete ball) Reference Materials for Gamma-emitting Radionuclide Measurement (KRISS 2203CB-2) 2,200,000원
토양(ball) 방사능 표준물질(KRISS 2203SB-1) Batch-type (Soil ball) Reference Materials for Gamma-emitting Radionuclide Measurement (KRISS 2203SB-1) 2,200,000원
토양(ball) 방사능 표준물질(KRISS 2203SB-2) Batch-type (Soil ball) Reference Materials for Gamma-emitting Radionuclide Measurement (KRISS 2203SB-2) 2,200,000원
LSC 교정용 H-3 소광 방사능인증표준물질 Quenched set of H-3 standards 6,600,000원
LSC 교정용 Sr-90 방사능인증표준물질 Sr-90 standard source 1,650,000원
Ra-226 방사능인증표준물질 (실비)
KRISS 생산 방사능 CRM 폐기대행 (MB1L, MBN1L) 283,800원
KRISS 생산 방사능 CRM 폐기대행 (MB2L) 369,600원
KRISS 생산 방사능 CRM 폐기대행 (MB2LN) 369,600원
KRISS 생산 방사능 CRM 폐기대행 (CB05, CB20, CB40, CB80) 240,900원
KRISS 생산 방사능 CRM 폐기대행 (CB1L) 283,800원
KRISS 생산 방사능 CRM 폐기대행 (MB450) 240,900원
주문 생산 방사능 인증표준물질 Customized radioactivity cerified reference material (실비)
반도체 면저항 (실리콘 웨이퍼, 10 mΩ/sq. ~ 10 kΩ/sq.) Sheet Resistance of Semiconductor (Siliconwafer, 10 mΩ/sq. ~ 10 kΩ/sq.) 1,100,000원
반도체 비저항 (실리콘 웨이퍼, 0.01 Ωcm ~ 500 Ωcm) Resistivity of Semiconductor (Siliconwafer, 0.01 Ωcm ~ 500 Ωcm) 1,100,000원
반도체 면저항 (후막저항, 0.05 Ω/sq. ~ 1 GΩ/sq.) Sheet Resistance of Semiconductor (thick film resistor, 0.05 Ω/sq. ~ 1 GΩ/sq.) 1,100,000원
(인증) 고 면저항 인증표준물질 (Certification) High Sheet-resistance 440,000원
(인증) 반도체 면저항 및 반도체 비저항 (실리콘 웨이퍼) (Certification) Sheet Resistance of Semiconductor or Resistivity of Semiconductor (Siliconwafer) 440,000원
(인증) 반도체 면저항 (후막저항) (Certification) Sheet Resistance of Semiconductor (thick film resistor) 440,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (0.02 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(0.02 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (0.05 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(0.05 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (0.3 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(0.3 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (10 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(10 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (50 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(50 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (100 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(100 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (150 Ω/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(150 Ω/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (1 kΩ/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(1 kΩ/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (3 kΩ/□) Silicon wafer sheet resistance certificate reference material
(3 kΩ/□) 1,650,000원
실리콘 웨이퍼 면저항 인증표준물질 (10 kΩ/□) Si wafer sheet resistance certificate reference material (10 kΩ/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (5 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (5 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (10 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (10 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (20 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (20 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (35 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (35 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (50 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (50 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (70 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (70 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (150 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (150 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (200 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (200 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (300 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (300 Ω/□) 1,650,000원
ITO 면저항 인증표준물질 (500 Ω/□) ITO sheet resistance certificate reference material (500 Ω/□) 1,650,000원
현미경 배율 교정용 1차원 격차 피치 (180 nm) 1D Gratings for calibrating magnification of precision microscopes (180 nm) 1,100,000원
현미경 배율 교정용 1차원 격차 피치 (3 μm) 1D Gratings for calibrating magnification of precision microscopes (3 μm) 1,100,000원
현미경 및 형상측정기 배율 교정용 선폭 Line widths for calibrating magnification of microscopes and profilers (실비)
비접촉식 좌표 측정기 교정용 2D 그리드 2D Grid for calibration of non-contact coordinate measuring machines 2,750,000원
타원계측기 교정용 박막층 두께 Thin Film Thickness 2,200,000원
(3 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (3 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(5 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (5 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(10 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(20 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(30 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (30 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(40 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(50 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (50 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(100 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (100 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(200 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(500 nm 두께, 100 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (500 nm thick., 100 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(3 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (3 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(5 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (5 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(10 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(20 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(30 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (30 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(40 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(50 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (50 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(100 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (100 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(200 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(500 nm 두께, 150 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (500 nm thick., 150 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 2,200,000원
(3 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (3 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(5 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (5 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(10 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(20 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(30 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (30 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(40 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(50 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (50 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(100 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (100 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(200 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(500 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질 (500 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 3,300,000원
(3 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (3 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(5 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (5 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(10 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(20 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(30 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (30 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(40 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(50 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (50 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(100 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (100 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(200 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(500 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막층 두께 인증표준물질 (500 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon 4,400,000원
(10 nm 두께, 100 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 100 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(20 nm 두께, 100 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 100 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(40 nm 두께, 100 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 100 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(90 nm 두께, 100 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (90 nm thick., 100 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(120 nm 두께, 100 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (120 nm thick., 100 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(200 nm 두께, 100 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 100 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(10 nm 두께, 150 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 150 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(20 nm 두께, 150 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 150 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(40 nm 두께, 150 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 150 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(90 nm 두께, 150 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (90 nm thick., 150 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(120 nm 두께, 150 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (120 nm thick., 150 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(200 nm 두께, 150 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 150 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 2,200,000원
(10 nm 두께, 200 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 200 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 3,113,000원
(20 nm 두께, 200 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 200 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 3,113,000원
(40 nm 두께, 200 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 200 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 3,113,000원
(90 nm 두께, 200 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (90 nm thick., 200 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 3,113,000원
(120 nm 두께, 200 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (120 nm thick., 200 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 3,113,000원
(200 nm 두께, 200 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 200 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 3,113,000원
(10 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (10 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 4,158,000원
(20 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (20 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 4,158,000원
(40 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (40 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 4,158,000원
(90 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (90 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 4,158,000원
(120 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (120 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 4,158,000원
(200 nm 두께, 300 mm 웨이퍼) 실리콘 기판층 위에 성장된 질화규소 박막층 두께 인증표준물질 (200 nm thick., 300 mm wafer) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon nitride grown on silicon 4,158,000원
단차 (0.5 μm, 시편 15 mm x 15 mm) Step height (0.5 μm, specimen 15 mm x 15 mm) 1,650,000원
단차 (1 μm, 시편 15 mm x 15 mm) Step height (1 μm, specimen 15 mm x 15 mm) 1,650,000원
단차 (5 μm, 시편 12 mm x 12 mm) Step height (5 μm, specimen 12 mm x 12 mm) 1,650,000원
3라인 단차 (2 μm, Crystal) 3 line step height (2 μm, Crystal) 2,200,000원
3라인 단차 (2 μm, Metal) 3 Line Step height (2 μm, Metal) 2,200,000원
3라인 단차 (3 μm, Crystal) 3 Line Step height (3 μm, Crystal) 2,200,000원
3라인 단차 (3 μm, Metal) 3 Line Step height (3 μm, Metal) 2,200,000원
3라인 단차 (6 μm, Crystal) 3 Line Step height (6 μm, Crystal) 2,200,000원
3라인 단차 (6 μm, Metal) 3 Line Step height (6 μm, Metal) 2,200,000원
3라인 단차 (10 μm, Crystal) 3 Line Step height (10 μm, Crystal) 2,200,000원
3라인 단차 (10 μm, Metal) 3 Line Step height (10 μm, Metal) 2,200,000원
3개 성분 단차 표준시편 550,000원
웨이퍼 두께 표준시편 (300 μm) Wafer thickness standard (300 μm) 770,000원
웨이퍼 두께 표준시편 (400 μm) Wafer thickness standard (400 μm) 770,000원
웨이퍼 두께 표준시편 (500 μm) Wafer thickness standard (500 μm) 770,000원
웨이퍼 두께 표준시편 (600 μm) Wafer thickness standard (600 μm) 770,000원
웨이퍼 두께 표준시편 (700 μm) Wafer thickness standard (700 μm) 770,000원
표면거칠기 (Ra=1 μm, Rz=2 μm, Crystal) Surface Roughness (Ra=1 μm, Rz=2 μm, Crystal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=1 μm, Rz=2 μm, Metal) Surface Roughness (Ra=1 μm, Rz=2 μm, Metal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=1.5 μm, Rz=3 μm, Crystal) Surface Roughness (Ra=1.5 μm, Rz=3 μm, Crystal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=1.5 μm, Rz=3 μm, Metal) Surface Roughness (Ra=1.5 μm, Rz=3 μm, Metal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=3 μm, Rz=6 μm, Crystal) Surface Roughness (Ra=3 μm, Rz=6 μm, Crystal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=3 μm, Rz=6 μm, Metal) Surface Roughness (Ra=3 μm, Rz=6 μm, Metal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=5 μm, Rz=10 μm, Crystal) Surface Roughness (Ra=5 μm, Rz=10 μm, Crystal) 2,200,000원
표면거칠기 (Ra=5 μm, Rz=10 μm, Metal) Surface Roughness (Ra=5 μm, Rz=10 μm, Metal) 2,200,000원
스테이지 마이크로미터(1 mm & 5 mm / 100 div.) (실비)
웨이퍼 표면방위 교정용 기준물 Surface Orientation of a Single Crystal Wafer 770,000원
웨이퍼 표면방위 교정용 기준물 Surface Orientation of a Single Crystal Wafer 770,000원
단결정 실리콘 웨이퍼 표면방위 CRM Surface Orientation CRM of Single Crystal Si Wafer 770,000원
단결정 실리콘 웨이퍼 표면방위 CRM Surface Orientation CRM of Single Crystal Si Wafer 770,000원
웨이퍼 표면방위 교정용 기준물 Surface Orientation of a Single Crystal Wafer 770,000원
웨이퍼 표면방위 교정용 기준물 Surface Orientation of a Single Crystal Wafer 770,000원
웨이퍼 표면방위 교정용 기준물 Surface Orientation of a Single Crystal Wafer 770,000원
웨이퍼 표면방위 교정용 기준물 Surface Orientation CRM of a Single Crystal Wafer 770,000원
50 nm 실리카 나노입자 크기 인증표준물질 CRM for Silica Nanoparticle Size (50 nm) 85,800원
20 nm 실리카 나노입자 크기 인증표준물질 CRM for Silica Nanoparticle Size (20 nm) 83,600원
90 nm 금 나노입자 크기 인증표준물질 CRM for Gold Nanoparticle Size (90 nm) 198,000원
90 nm 실리카 나노입자 크기 인증표준물질 CRM for Silica Nanoparticle Size (90 nm) 110,000원
100 nm 폴리스타이렌 나노입자 인증표준물질 CRM for Polystyrene Nanoparticle Size (100 nm) 295,900원
20 nm 형광 실리카 나노입자 인증표준물질 CRM for 20 nm FITC Silica nanoparticle 350,900원
50 nm 형광 실리카 나노입자 인증표준물질 CRM for 50 nm FITC Silica nanoparticle 341,000원
10 nm 금 나노입자 165,000원
비표면적 인증표준물질 (TiO2 이산화 타이타늄) CRM for Specific Surface Area (TiO2) 266,200원
비표면적 인증표준물질 (ZnO 산화아연) CRM for Specific Surface Area (ZnO) 275,000원
비표면적 인증표준물질 (rGO 환원된 산화그래핀) CRM for Specific Surface Area (rGO) 275,000원
비표면적 인증표준물질 (Al₂O₃ 산화알루미늄) CRM for Specific Surface Area (Al₂O₃ Aluminium Oxide) 286,000원
비표면적 인증표준물질 (CeO2 산화세륨) CRM for Specific Surface Area (CeO2) 330,000원
이산화 타이타늄 (TiO2) Titanium Dioxide (TiO2) 330,000원
비표면적 인증표준물질 (SiO2 이산화 규소) CRM for Specific Surface Area (Silicon Dioxide SiO2) 330,000원
산화철 나노입자 (자성특성 분석용) Iron oxide nanoparticle in aqueous solution 330,000원
수분산 양자점 (양자효율 인증용) Quantum dot suspension 292,600원
X-선필름 감광도 (인증) X-ray Film Step Tablet 165,000원
X-선필름 감광도 (제조) X-ray Film Step Tablet 418,000원
P91(9Cr-1Mo)강 열화도 평가기준편 Reference Materials for Degradation Degrees of P91(9Cr-1Mo) Steel 2,200,000원
P121(12Cr-1Mo)강 열화도 평가기준편 Reference Materials for Degradation Degrees of P121(12Cr-1Mo) Steel 2,200,000원
2.25Cr-1Mo강 열화도 평가기준편 Reference Materials for Degradation Degrees of 2.25Cr-1Mo Steel 2,200,000원
1Cr-0.5Mo강 열화도 평가 기준편 Reference Materials for Degradation Degrees of 1Cr-0.5Mo Steel 2,200,000원
쇼어 경도기준편 Reference block for Shore hardness 199,100원
리브 D 스케일용 경도기준편 Reference block for Leeb hardness D scale (실비)
리브 G 스케일용 경도기준편 Reference block for Leeb hardness G scale (실비)
경도시험용 1급 다이아몬드 누르개 First grade Diamond Indenter for Hardness Testing (실비)
1차 경도기준편 Primary hardness refernce block (실비)
인장 압입 강도 기준물 Reference Material for Tensile-Indentation Strength 2,475,000원

표준물질생산.공급기관

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