(100 nm 두께, 200 mm 웨이퍼 직경) 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소(SiO2) 박막층 두께 인증표준물질
(100 nm thick., 200 mm wafer dia.) Certified reference material for the thickness of a thin film layer of silicon dioxide grown on silicon
- 표준물질코드
- 20703308-001
- 생산·공급기관
- 한국표준과학연구원
- 재고수량
- N/A
- 판매가(VAT포함)
-
3,300,000원
- 바로가기
- 형태/규격
- 박막층 두께 명목값: 100 nm, 웨이퍼 직경 : 200 mm
- 서비스유형
- 주문제조
- 표준물질 구분
- 인증표준물질
- 용도
- 타원계측기(ellipsometer)와 같은 광학적 두께 측정장치를 교정하기 위해 사용함
- 인증값
- 인증서의 "인증결과" 참조
- 측정불확도
- 인증방법
- 광학적 두께 측정을 위한 실리콘 기판층 위에 성장된 이산화 규소 박막 표준물질 생산절차 [R-207-016]
Preparation and certification of reference materials used for optical measurement of thickness of a silicon dioxide layer on silicon [R-207-016]